最新动态纳米银薄膜用蚀刻液/蚀刻膏
Etchant & Etching Paste for AgNW TCF
| 项目（ Item ) | 蚀刻液 （Etchant for AgNW TCF ) |
| 对应物 ( Target ) | 柔性纳米银透明导电薄膜 ( AgNW TCF ) |
| 适用工艺 ( Method ) | 曝光工艺 ( Photolithography ) |
| 工艺温度/时间 ( Temp./Time ) | 常温/60-120sec ( Room Temp./60-120sec ) |
| 最小线宽 ( Pattern ) | 20um |
| 特点 ( Characteristics ) | 通过局部蚀刻，改善蚀刻痕 Good Invisibility，Partial Etching |
| 项目（ Item ) | 蚀刻液 （Etching Paste for AgNW TCF ) |
| 对应物 ( Target ) | 柔性纳米银透明导电薄膜 ( AgNW TCF ) |
| 适用工艺 ( Method ) | 丝网印刷工艺 ( Screen Printing ) |
| 工艺温度/时间 ( Temp./Time ) | 110 ℃ / 5-10min |
| 最小线宽 ( Pattern ) | 200um 或 30um ( 镭射/Laser ) |
| 特点 ( Characteristics ) | 与镭射工艺共同适用，大幅度缩短镭射工艺时间。 High Productivity with Laser Etching. |
适用效果：
全面蚀刻 （Full Etching ) OR 局部蚀刻 ( Partial Etching )
企业官网：www.mogreat.com
